曝光方式

*光源：采用GCQ350Z型超高壓水銀直流汞燈。

*照明范圍：≤110mm

*不均勻性：ф100mm內(nèi)±3%

*可使用的波長：g線、h線、I線的組合。

*成象面照明：光照度2～20毫瓦/厘米2,任意可調(diào)(出廠時,照明度調(diào)在4mw/cm2)

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主要性能指標

主要性能指標：

（1）高均勻性LED曝光頭。

光強≤20mw；曝光面積：100mm×100mm

曝光不均勻性≤3%

曝光強度≥30mW/cm2可調(diào)

紫外光束角≤3°

紫外光中心波長365nm、404nm、435nm可選

紫外光源壽命：≥2萬小時

電子快門精準控制

對準精度1微米、曝光精度1微米、套刻精度1微米

（2）觀察系統(tǒng)為上下各兩個單筒顯微鏡上裝四個CCD攝像頭通過視屏線連接計算機到液晶顯視屏上。

a、單筒顯微鏡為0.7X～4.5X連續(xù)變倍顯微鏡；

b、CCD攝像機靶面對角線尺寸為：1/3″,6mm；

c、采用19″液晶監(jiān)視器，其數(shù)字放大倍率為19&pide;1/3=57倍；

d、觀察系統(tǒng)放大倍數(shù)為：0.7×57≈40倍（最小倍數(shù)）

? ?4.5×57≈256(最大倍數(shù)）或(91倍～570倍）

e、右表板上有一視屏轉換開關：向左為下二個CCD，向右為上二個CCD。

? ? （3）計算機硬軟件系統(tǒng)：

? ? ? a、鼠標單擊“開始對準”，能將監(jiān)視屏上的圖形記憶下來，并處理成透明的，以便對新進入的圖形進行對準；

? ? ? b、鼠標雙擊左面或右面圖形，就分別全屏顯示左或右面圖形。

（4）非常特殊的板架裝置：

? a、該裝置能分別裝入152×152板架，對版進行真空吸附；

? b、該裝置安裝在機座上，能圍繞A點作翻轉運動，相對于承片臺而言作上下翻轉運動，以便于上下版和上下片；

? c、該裝置來回反復翻轉，回到承片臺上平面的位置，重復精度為≤±1.5μ；

? d、該裝置具有補償基片楔形誤差之功能，保證版下平面與片上平面之良好接觸，以便提高曝光質(zhì)量。

? ? ?（5）承片臺調(diào)整裝置：

a、配備有Φ75、Φ100承片臺各一個，這二種承片臺有二個長方孔，下面二個CCD通過該孔能觀察到版或片的下平面；

b、承片臺能作X、Y、Z、θ運動，X、Y、Z可作±5mm運動，θ運動為±5°；

c、承片臺密著環(huán)相對于版，能實現(xiàn)“真空密著”：

真空密著力≤-0.05Mpa為硬接觸；

真空密著力≤-0.05Mpa～-0.02Mpa為軟接觸；

? ? ? ? ? ?真空密著力≤-0.02Mpa為微力接觸；

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安裝條件

1、安裝環(huán)境：

（1）建議室溫保持25℃±2℃。

（2）相對濕度≤60%。

（3）房間地面振幅≤0.004mn 。

（4）房間凈化到100級。

2、對掩版和片的要求：

版和片的厚度無特別要求，但版的外形尺寸、不平整度應符合國家標準。片的外形尺寸、片的不平整度，特別是要進行雙面光刻的片，其二面的光潔度和不平整都應符合國家標準。

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尺寸和重量

尺寸：700（長）×700（寬）×960（高）

重量≤100kg

機體放在專用工作臺上

工作臺? 750（長）×720（寬）×640（高）? 高度可調(diào)范圍0~30mm

重量70kg (工作臺后側裝有電氣部分)總重量≤200kg

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機體放置換要求

機體放在專用工作臺上。

工作臺:1100 mm（長）×750 mm（寬）×645 mm（高）。

高度可調(diào)范圍0～30mm。

重量50Kg（工作臺后側裝有電氣部分）。

總重量≤200Kg